Мы в VK
Хлористый водород | Хлороводород, хлороводород ВЧ

Класс чистоты
Чистота
Примеси [ppm]
H20 |
O2 |
N2 |
CO |
CO2 |
CnHm |
Fe |
||
Хлористый водород 3.0 |
≥99.9% |
≤10 |
— |
— |
— |
— |
— |
— |
Хлористый водород 4.5 |
≥99.995% |
≤2 |
≤5 |
≤10 |
≤2 |
≤40 |
≤2 |
— |
Хлористый водород 5.0 |
≥99.999% |
≤2 |
≤1 |
≤4 |
≤1 |
≤3 |
≤1 |
≤1 |
Хлористый водород 5.5 |
≥99.9995% |
≤1 |
≤0.5 |
≤1 |
≤0.5 |
≤1 |
≤0.5 |
≤0.1 |
![]() ![]() | ![]() |
1-10 литров |
11-20 литров |
40-50 литров |
Алюминиевые |
Моноблоки |
Другая тара |
![]() |
![]() |
|
|
|
|
Бесцветный, термически устойчивый газ (при нормальных условиях) с резким запахом, дымящий во влажном воздухе, легко растворяется в воде. Тяжелее воздуха.
Международная маркировка в соответствии с СГС (GHS)
Сигнальное слово: ОСТОРОЖНО
![]() ![]() ![]() |
H-фразы: Сжиженный газ → H280 – Содержит газ под давлением; при нагревании может произойти взрыв; H331 – Токсично при вдыхании; H314 – Вызывает серьёзные ожоги кожи и повреждения глаз; EUH071 – Разьедающее действие на дыхательные пути. |
![]() |
ADR Класс: 2 2TC |
В промышленности хлороводород ранее получали в основном сульфатным методом (методом Леблана), основанном на взаимодействии хлорида натрия с концентрированной серной кислотой. В настоящее время для получения хлороводорода обычно используют прямой синтез из простых веществ. Соляную кислоту получают растворением газообразного хлороводорода в воде. В производственных условиях синтез осуществляется в специальных установках, в которых водород непрерывно сгорает ровным пламенем в токе хлора, смешиваясь с ним непосредственно в факеле горелки. Тем самым достигается спокойное (без взрыва) протекание реакции. Водород подается в избытке (+5-10%), что позволяет полностью использовать более ценный хлор и получить незагрязненную хлором соляную кислоту.
- Водный раствор хлороводорода широко используется для получения хлоридов, для травления металлов, очистки поверхности сосудов, скважин от карбонатов, обработки руд.
- Хлороводород используют при производстве каучуков, глутамината натрия, соды, хлора и других продуктов.
- Также применяется в органическом синтезе.
- В процессах термической обработки и осаждения слоев поликристаллического кремния на поверхности полупроводниковых пластин в производстве микроэлектроники.
Молекулярная масса |
36.461 |
|||
Точка кипения |
при 1.013 бар [°C] |
–85.1 |
при 14.5 psi [°F] |
–120.98 |
Плотность газа |
при 1.013 бар, 15°C [кг/м³] |
1.552 |
при 1 атм., 70 °F [lb/ft³] |
0.095 |
Давление жидкости |
при 0 °C [бар] |
25.6 |
при 32 °F [psi] |
371.1 |
|
при 20 °C [бар] |
42.02 |
при 70 °F [psi] |
625.37 |
Диапазон КПРП [%] |
|
— |
|
|
